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第353章 林教授错了?让他错个高兴!

    第353章林教授错了?让他错个高兴!(第1/2页)


    接下来的几天。


    经过国安的排查,就在燕清苑附近,就抓到了五十多个和境外组织有联系的可疑人员。


    其中,有大部分人甚至都不知道自己违法犯罪了。


    他们有的通过网络兼职,有的通过商务合作,亦或者跨境电商的方式,得到了境外组织的钱。


    至于对方的要求......


    无非是到某个地方拿东西,亦或者拍几张照片就行。


    除此之外,还有俩做自媒体的老外。


    经过专业人员调查,在表面上,他们是在跟外网分享北大水木两所大学的风貌。


    但实则.....


    手机里却储存一些国家实验室地点,以及这些实验室相关的负责人信息。


    之后......


    经过更进一步调查,国安这边发现.....


    其中一人以前竟然还是cia的。


    “这么多吗!?”


    此时,国安局内。


    看着桌上厚厚的文件,排查组主任贺平不禁摇了摇头。


    以前.....


    国安每隔一段时间,其实也会排查北大,水木,以及其他国家重要实验中心周围的情况。


    但这一次抓到的嫌疑人,明显多了很多!


    是因为林决在深空通信领域搞了个大的之后,现在研发光刻机,他们急了!?


    以至于以前那些隐藏得很好的人,现在都暴露了?


    “滴滴滴!!!”


    就在此时,贺平的手机电话响起。


    “主任,咱们第一轮的地毯式排查已经结束,接下来还要继续嘛?”


    贺平没有丝毫犹豫,


    “当然,有些嫌疑人大概率境外故意给的线索,才让他们暴露在我们眼前,好让我们放松警惕的,正好,我们将计就计......”


    .........


    京城光机所。


    在外界进行激烈博弈的时候。


    euv实验中心却没受到任何影响。


    在林决的林氏函子光学变式得到验证后,在国家机器强大的调度下。


    如今。


    水木最新一代的镀膜材料,光学测试装备已经上机。


    除此之外,在林决的建议下。


    euv反射响应测量台,以及皮米级压电促动器驱动阵列也做了相应优化。


    这个过程其实有件有意思的事情。


    在光机所内部.....


    以往要做成改机,优化的事项。


    程序是那是相当很繁琐的。


    比如,林决要将euv反射响应测量台函子输入端,从原来的“单模”改成“双模合一”的方案。


    要是放在以前,这个方案推进,少说也得要一两个月。


    各个部门要评审,然后再提交给装备组,最后还要写什么可行性论证的文件,再接着是联签会议。


    如果有专家这时候站出来反对,又得吵上两轮。


    就算最后通过,采购还得扯皮。


    这个过程虽然繁琐。


    但按照实际情况来说,却是完全有必要的!!!


    毕竟光刻机这种大型项目,某个环节出了问题,有时候损失的可不仅是时间。


    在资金,人力物力的各种损耗,那也都是天文数字!


    然而.....


    现在情况有了变化。


    euv反射镜多层膜的原位相位非均匀性误差测试结束后。


    上头各个部门的反应,那叫一个积极......


    不到五天时间。


    反射响应台和驱动阵列,便在工程师们24小时接力下,完成了改进!!!


    什么?


    林教授要改东西?


    文件给我拿来吧你!


    我只管签字就完事儿咯!


    林教授要做的事情,还用问吗?


    还需要问吗!?


    我们肯定大力支持啊!!!


    什么!?


    要是林教授错了怎么办?


    (本章未完,请点击下一页继续阅读)第353章林教授错了?让他错个高兴!(第2/2页)


    就凭他加入光机所后,不到一个月时间,就让euv反射镜多层膜跟上国际一流指标。


    就算接下来林教授是错,那也得让他错个高兴,错个酣畅淋漓!


    毕竟......


    要是万一林教授又从错误中,发现新的灵感呢?


    就算是错误,那岂不是也价值千金?


    这种说法,是丝毫不夸张的。


    华夏苦高端芯片产业久矣!!!


    ai,超级计算机......


    电子信息时代,掌握了光刻技术,才能够将这些高端产业走得更远!


    早上九点。


    当林决来到实验室,人已经全部到齐了。


    “林教授,设备已经按照您的要求改完了,今天咱们的任务是什么?”


    看到他来,蒋墨跑过来打了个招呼。


    “按照之前的规划,直接上整机先试试。”


    林决口中的整机并非是说光刻机。


    而是在实验室内,将拥有林氏函子光学变式的模型,在各个大型设备上完成流程闭环。


    “今天就上吗?不用再优化一下流程?”蒋墨有些惊讶。


    林决点了点头,很是确定,


    “没事,先跑一遍再说吧。”


    “那行!”


    他都如此说了,蒋墨便也不再反对。


    然后在黄所,蒋墨,陈望山等人的组织下,第一次用林氏函子光变式映射模型的整机闭环开始了。


    光学源头完成装配校准,真空建立、光路调试、硅片上片、曝光、刻蚀配套联调、检测晶圆良率.....


    各个关卡,都有专业的工程师盯着。


    第一次流程需要的时间挺多的,需要整整72个小时!


    ........


    转眼。


    三天时间过去。


    光机所会议室内。


    第一次整机闭环的检测被分析组公布出来。


    “从整体来看,本次跑机结果良好,但在函子输出端,132路高电压情况下......


    波前误差会开始增大,从原本的0.18,直接跳到0.24。”


    数据分析组组长于志明将表格内的数据标红。


    “我们初步分析,这是因为函子输出太激进,控制周期跟不上的原因......”


    此话一出。


    会议室里立马开始躁动起来。


    从于志明公布的整个整机流程来看。


    林氏函子光学变式映射,是完全能够跑通整机,并且对比之前拥有极大进步的。


    不过也因为函子输出端给的指令超频。


    导致相应设备跟不上,最后导致光波偏振,误差增大了。


    陈望山打开电脑上详细的数据看了看,


    “光学采样只有6hz.....对比输出端的10hz确实少了一些,在高电压情况下,误差确实会增大。”


    蒋墨凑过来看了眼,眼神中带着不敢置信,


    “.....也就是说,咱们攒出来最好的设备,都还做不到匹配这个模型吗?”


    此时。


    台上,站在于志明不远处的林决听到这话,不由得开玩笑道,


    “蒋老您想夸我直接说就行,不用弯弯绕绕的。”


    蒋墨:“???”


    “陈望山,你这徒弟有点过分了啊。”


    陈望山看了蒋墨一眼,都懒搭理,而是直接对林决问着,


    “这个问题应该有办法解决吧?我看你这三天都在忙着做改进脚本。”


    闻言,卢敬尧,房怀年几人一惊。


    什么!?


    已经想好方案了?


    这几天,他们基本全天候盯着平台。


    所以虽然知道林决在办公室忙事儿。


    但林决具体干什么,他们却是不清楚的。


    蒋墨:


    “真的假的?”


    房怀年:


    “你提前准备好方法了?这个问题也在你的预料之中?”
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